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1200℃小型開啟式真空管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng),可控硅控制,控溫精度高;雙層殼體結(jié)構(gòu),設(shè)計(jì)合理,外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊;雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),有效保證外殼表面溫度;真空級法蘭密封,結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng),可抽真空通氣氛。
小型開啟式管式爐在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜,副產(chǎn)物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉(PECVD)。
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